应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
该系列设备主要是（集）直流磁控溅射, 中频溅射和多弧离子三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜, 使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜（DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。
该设备可客户的实际情况定制。
磁控、中频、多弧离子镀膜设备技术参数说明
设备型号 | ZCK-1000 | ZCK-1150 | ZCK-1200 | ZCK-1400 | ZCK-1600 |
真空室尺寸 | 1000×1200 | 1150×1200 | 1200×1300 | 1400×1300 | 1600×1300 |
制膜种类 | 金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等 |
电源类型 | 直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源 |
多弧靶 | 多弧靶5个或18个，1个或2个柱弧靶 |
孪生靶 | 中频孪生柱靶或平面靶（1-4对） |
真空室结构 | 立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统 |
真空系统 | 旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统） |
加热系统 | 常温至350度可调可控（PID控温），不绣钢加热管加热 |
充气系统 | 质量流量控制仪（1-4路） |
极限真空 | 6×10－4pa（空载、净室） |
抽气时间 | 空载大气抽至5×10－3pa小于13分钟 |
保压率 | 1h≤0.6pa |
工件旋转方式 | 上旋转或下旋转＋公自转变频无级可控可调，0-20转/分 |
控制方式 | 手动＋半自动/触摸屏＋PLC |
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
