产品名称：DM-CVD石英管式微波等离子体装置

主要配置：

1、微波频率2.45GHz；足额功率0～500W（基本型）或0～1000W（升级型）连续可调，阳极高压、阳极电流足额显示；

2、Φ50mm（基本型）或Φ90mm（升级型）石英管真空室，有一个观察窗和一个诊断窗；

3、石英管采用制冷循环水冷却，保证装置安全运行。

4、配有真空测量及控制阀门系统；3路工作气体流量控制；

(二)典型实验：

1、等离子体化学气相沉积。A（气）+B（气）→C（固）+D（气）。

反应气体A、B被激发为等离子状态，其活性基团发生反应生成所需要的固态物沉积在基片上，可广泛用于薄膜或纳米材料的合成。如金刚石薄膜、碳纳米材料等。

2、等离子体表面刻蚀。A（气）+B（固）→C（气）。反应气体A被激发为等离子体状态与固体B表面原子发生反应生成气态物C，可用于集成电路的刻蚀实验。

3、等离子体催化反应。等离子体中具有丰富的活性成分，如紫外和可见光子、电子、离子、自由基，高反应性的中性成分如活性原子、受激原子态，从而可以引发在常规化学中不能或很难实现的化学反应。

4、等离子体表面改性。A（气）+B（固）→C（固）。反应气体A被激发为等离子体状态，与固体B表面发生反应，生成新的化合物，从而达到改变B物质表面性质的目的。广泛用于高分子材料、金属材料、生物医用材料的表面改性。