市场上最通用的硅片抛光机，适合不同尺寸的硅片研磨抛光。该机可同时完成粗磨，精磨，精抛等三道工序，避免了需要多台操作的繁琐。改硅片抛光机的技术突破点在：可以对超薄大尺寸硅片进行抛光，光洁度可达纳米级。工作原理：本系列硅片抛光机由四个吸附盘吸附硅片与抛光盘做逆时针旋转来达到抛光的目的。
特点：
1.本系列抛光机的吸附盘由四台单独的电机驱动、速度与压力可调。
2.控制系统中采用PLC彩色终端等先进技术，系统的响应速度更快、更精确，并具有远程监控，远程维护的功能；
3.本系列抛光机运行平稳，抛光后的产品厚度公差可控制在正负0.002mm范围内，粗糙度可达到0.0005mm。
设备规格：
型号 YM-18A YM-24A YM-36A YM-48A
抛光盘规格φ460*φ140 φ610*φ200 φ910*φ300 φ1220*φ400
最大抛光尺寸φ150mm φ200mm φ300mm φ450mm
抛光后平面度 ±0.5u以内 ±0.7u以内 ±1u以内 ±1u以内
工件平行度（25mm）±1u以内 ±1.5u以内 ±2u以内 ±2u以内
工件粗糙度 0.4nm以内 0.4nm以内 0.4nm以内 0.4nm以内
