超纯水对电子制造至关重要，无论是晶片、半导体、扁平面板还是大容量存储器。海诺威紫外线在整套水处理设备中起到了重要作用，进行消毒、去除有机物、去除臭氧和去除余氯。此外，过氧化处理对原水和再生水越来越重要，水质量要求越来越高，水资源可利用量面临越来越来大的挑战。

在活性炭过滤器、DI树脂和储水罐这样的微生物易繁殖区域之后，细菌控制极为重要。通过特殊紫外线灯管降低总有机碳(TOC)，破坏分子键同时激发水分子中生成分解有机化合物的积极羟自由基，进而分解低水平有机物。海诺威超级总有机碳中压紫外线系统灯管数量比传统灯管减少了高达95%，同时在大流量水处理中运作和维修成本会降低50%或者更多。

臭氧经常用于去除总有机碳和保护储罐中的水，但是臭氧必须被去除，否则就会使设备退化，且不能与晶片接触。中压紫外线保证去除水罐出水中的臭氧，并且不需要使用任何化学药剂或加热。

对再生水和含特殊污染物的水进行高级氧化处理，对全世界的晶圆制造厂来说都非常有价值。由于所有处理工艺通常都是在现场调整，所以需要特别考虑。

1.海诺威超级总有机碳灯管是为半导体工业专门设计的，使超纯水以及其循环管路中的总有机碳不超过十亿分之一。

2.海诺威中压总有机碳分解（PMT）系列用在大多数半导体工厂中，提供了令人放心的、行之有效的解决方案。

3.市场上可监测性水平最高的系统。

  海诺威在半导体市场中是龙头企业，在这一应用领域海诺威紫外线系统在全球已安装使用超过五百套系统。