前 言

1.1本方案涉及流程及设备是专为光学类清洗工业用纯水项目，要求如下：

1.1.1产水用途：工业用纯水；电阻率≥15MΩ·CM；

1.1.2系统总进水：市政自来水≥1000L/hr。

1.1.3系统出力：反渗透纯水500L/hr。

1.1.4系统配置：预处理、反渗透、混床系统及相关辅助设备。

1.1.5系统得率：反渗透≥65％。

1.1.6运行方式：手动+自动运行。

1.1.7供水方式：连续产出（24小时运行）。

1.2工艺流程图

原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性碳过滤器→软水器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→纯水泵→混床→0.45μ微孔过滤器→用水点                  

1.3  本方案主要依据如下：

1.3.1用户对产水水质的要求.

1.3.2原水水源：当地市政自来水。

1.3.3原水水质分析：用户提供的水质分析报告。

1.3.4设计界线：（详见工艺流程图-附件1）。

1.3.5其他涉及的设计基础条件将在技术讨论中确定。

1.4  系统对外界要求：                                            

1.4.1进水管：进水管埋至水处理区内1.0米处。

1.4.2供电缆：根据我方提出的容量，用户将动力电分别送至我方操作电控柜上。            

1.4.3出水管：（详见工艺流程图-附件1）。

1.4.4药品：调试过程所用的化学试剂消耗品由用户提供。

1.4.5废水处理：排至厂房内地沟（用户考虑）。

1.4.6系统水温：常温。

2.0设计依据

本纯净水水站工程项目设计依据如下：

1.原水水质分析资料；

2.水站生产纯水的品质要求，工业用纯水， 电阻率≥15MΩ·CM；

3.水站生产规模；

4.现场情况与环境保护；

5.用户对系统整体水准要求。

2.1原水水质资料和技术指标：

    用户提供的原水为地下水，供水量充足，水质硬度较高，需配软水器。

  原水水样水质分析报告（由用户提供水质分析报告）：

2.2技术指标

2.2.1系统产水水质：电阻率≥15MΩ·CM,

2.2.2纯水系统产水水量：500L/hr。

2.2.3混床产水水量：≥500L/hr。

3.0总体设计方案

3.1本系统由三个部分组成

         原水预处理部分：1000L/hr

         反渗透处理部分：500L/hr

         混床处理部分：500L/hr

3. 2控制系统结构

  控制系统PLC控制，集中监视的集散型控制系统。