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CMP抛光液

  一．应用领域

  用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。

  二．产品特点

   1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。

   2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。

  三．性能指标

  四．使用方法

   1．可根据抛光操作条件用去离子水进行稀释。

   2．稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

   3．循环抛光可以用原液。

  五．包装及储存

   1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25Kg、250Kg。

   2．避免曝晒，贮存温度为5-35℃，低于0℃则产生冻胶而失效。

   3．避免敞口长期与空气接触。