在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（锡丝、铟银合金丝）熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度,拥有专利的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。
不导电（NCVM）膜镀膜设备
设备型号 | ZHL-1200HB | ZHL-1400HB | ZHL-1600HB | ZHL-1800HB |
真空室尺寸 | 1200×1500 | 1400×1950 | 1600×1950 | 1800×1950 |
制膜种类 | 不导电锡、半透明膜、铝 |
电源类型 | 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 |
真空室结构 | 立式双开门、立式单开门、 |
真空系统 | 滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统） |
极限真空 | 8×10－4pa（空载、净室） |
抽气时间 | 空载大气抽至5×10－2pa小于6分钟。 |
工件旋转方式 | 6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速 |
控制方式 | 手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC |
备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
