真空磁控溅射镀膜设备其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等。亦可镀防腐蚀膜（如AL,Cr不锈钢及TiN等）和耐磨膜，膜层与基底结合牢固，利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业，具有很好的发展前景。
振华真空生产的真空磁控溅射镀膜设备的主机控制采用可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统。全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。
磁控溅射全自动镀膜设备技术参数说明
设备型号：ZCK-1200，ZCK-1400，ZCK-1600，ZCK-1800
真空室尺寸：1200×1500，1400×1950，1600×1950，1800×1950
制膜种类：多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型：直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
圆柱靶：直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构：立式双开门、立式单开门
真空系统：滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
充气系统：质量流量控制仪（1-4路）
极限真空：6×10－4pa（空载、净室）
抽气时间：空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟
工件旋转方式：6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式：手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC
备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
