应用领域： CVD管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。

产品特点： CVD管式炉专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体, CVD管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。

技术指标：

设备型号

CVD（D）-06/60/3CVD（Z）-06/30/1CVD（G）-07/50/2CVD（G）-09/50/1

最高温度

1050℃1300℃1650℃/1000℃1650℃

使用温度

RT —1000℃850-1300℃1000-1600℃1000-1600℃

控制精度

±1.5℃ ±1.5℃ ±1.5℃ ±1.5℃

温区个数

3个1个2个1个

加热区长度

600mm300mm500mm(300mm/200mm)500mm

炉管尺寸

ф60（外径） × 1400（mm）ф60（外径） × 1000（mm）ф70（外径） × 1450（mm）ф90（外径） × 1450（mm）

炉管材料

石英管刚玉管刚玉管刚玉管

发热元件

进口电阻丝电阻丝/硅碳棒硅钼棒、电阻丝硅钼棒

最大装机功率

4.5KW3kw/8kw10kw12kwCVD-□□□

选件功能

/□/□ V 真空系列：单级机械泵 扩散泵机组 Q气氛系统：浮子流量计；进口/国产质量流量计