设备描述：
设备特点：该型清洗机采用最新流行环保水基清洗
工艺.该设计先进、合理,充分考虑了环保和节能的要
求；并采用全封闭式结构，运行部件设计充分考虑防止
污染;清洗机框架和烘干炉内均采用正压送风形式, 保
持运行时的风流始终外溢;同时, 清洗区域与维护区域
隔离开，确保润滑油脂及运动磨损不会对清洗的产品产
生二次污染;通过以上措施能有效保证工作室长期处于
洁净状态,从而保证产品的洁净要求；精巧的等工位移
载结构能最大限度地减少辅助运行时间，保正工艺参数
实施的准确性.本清洗机非常适合于LCD、TFT等基片的
清洗和干燥，完全能适合千级以上的环境下使用。
工作机理：欲清洗工件放入料框内专用固定夹内，由人
工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清
洗机本体，上下提升机构依照PLC指定的程序将料框搬
送到相应高度位置；完成对工件的清洗、喷淋、漂洗、
慢提拉脱水和热风干燥后、送至清洗机出口，运送到卸
料台出料。等工位机械手由气缸横向驱动，直线滑轨导
向；上下提升由马达驱动，直线导轴导向；慢提拉提升
机构由变频马达驱动，直线滑块导向；上下料由上下提
升机构独立完成；采用触摸屏操作系统,有手动和自动
切换开关及有关操作按钮，能对整个运行过程实行控制。