我公司系列硅溶胶产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片，不锈钢电子产品等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度（10～150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品的特点：
1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。（可以生产150 nm）
2.粒度可控，根据不同需要，可生产不同粒度的产品。（10-150 nm）
3.高纯度（Cu2＋含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污。
4.高平坦度加工，本品抛光是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。
5.适用性广：适用五金电子，光学镜片，硅片，稀有金属，铜铝合金，光纤等产品的抛光
