BOE就是buffer oxide etch.

BOE蚀刻液常用来作为氧化层图案的蚀刻，BOE的主要化学组成包括氢氟酸（HF）和氟化氨（NH4F），在半导体工业中常广泛使用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层。
氢氟酸是主要的蚀刻成份。
氟发氨是作为氢氟酸的（缓冲剂），以补充氟离子在溶液中因蚀刻反应的消耗。

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4，抛光耗材方面：fujimi抛光液103，compol-80，光纤抛光液，金属抛光液，氧化铈抛光皮；
5，电子化学品方面：ITO蚀刻液，BOE蚀刻液，铬蚀刻液，去胶液，显影液，晶片切割保护液；

6，供用美国安智光刻胶:AZ1500，AZ6130,等各型号光刻胶；