一、超纯水，纯水设备，超纯水设备水质标准：

　　我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

二、应用场合：

　　1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

　　2.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

　　3.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

　　4.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

　　5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

　　6.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

　　7.集成电路生产中高纯水清洗硅片

　　8.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

　　9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

　　10.高品质显像管、萤光粉生产

　　11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

　　12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

　　13.实验室和中试车间

　　14.汽车、家电表面抛光处理

　　15.光电产品、其他高科技精微产品

三、典型超纯水，纯水设备，超纯水设备用超纯水制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)

　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(最新工艺)

　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)