随着集成电路程度的进一步提高，对水中污染物要求亦将更为严格，从六十年代末期，美国五家公司提出的集成电路用纯水的水质指标以来，集成电路每前进一代，杂质都要减少1/2～1/10。美国材料实验学会（ASTM）1983、1990年颁发的电子级水质标准，已不能适应超大规模集成电路迅速发展需要。目前ASTM提出了新的、更为严格的水质指标。

产品概述：

南京博滤机械环保膜分离事业部，专业为半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路行业，提供生产所需纯水、高纯水、超纯水成套设备。我们采用先进的全膜法工艺，实现电阻率18MΩ以上超纯水的制取。

索引：半导体纯水设备，反渗透纯水设备，电子行业超纯水设备，液晶显示纯水设备，半导体水处理，电子行业水处理，集成电路水处理设备，电子厂纯水设备，电子级超纯水设备，18兆欧超纯水设备，18MΩ纯水设备，18MΩ纯水系统，18MΩ反渗透系统。

根据工艺生产用水要求典型工艺流程如下：

●预处理→反渗透→水箱→阳床→阴床→混合床→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→精密过滤器→用水对象。
●预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→ 0.2/0.5μm精密过滤器→用水对象。
●预处理→二级反渗透→中间水箱→水泵→ EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→ 0.2/0.5μm精密过滤器→用水对象。
●预处理→二级反渗透→中间水箱→水泵→ EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→ 0.2/0.5μm精密过滤器→用水对象（最新工艺）。

其中该工艺中反渗透法具有：

设备构型紧凑，占地面积小、单位体积产水量及能量消耗少等优点，已应用于几乎所以行业。如前所述，它是在没有相变的情况下，依靠大于渗透压的压力推动，通过膜的毛细管作用流出淡化的水，而且它还具有膜的筛分作用，能除去极小的细菌、病毒和热原。因此自从开发以来发展迅速，不仅用于海水或苦咸水的淡化，也作为锅炉补给水的预除盐和制取电子级超纯水。
水质标准：
符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)

我们为微电子行业提供运行维护：

●预处理石英砂、活性炭系统的滤料供应和现场更换服务。

●反渗透RO膜、UF超滤膜元件的清洗、更换及故障诊断、运行管理。

●EDI装置的清洗、维护和故障诊断、检修。

●混床阴、阳离子交换树脂的化学再生以及抛光树脂的更换和运行管理。

产品销售和服务方面，我厂在市区设有门市部和一个商务接待中心，在此我们以最大的热情和合作诚意，随时欢迎各界领导、同仁和朋友驾临指导。