产品介绍真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。
产品属性坩埚炉的技术参数 工作温度：≤1100℃
最高温度：1200℃ 控温方式：智能化可编程控制 升温最快速率：20℃/min 恒温精度：±1℃ 炉门结构：上开式 工作电源：AC220V 额定功率：3KW 使用方法坩锅炉主要应用：
煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径主要特点坩锅炉主要特点：
高品质惨钼铁铬铝合金作为发热元件，可加热到1200℃ 高纯石英杯：205外径x 190内径x 340高mm 高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。
内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。
工作原理坩埚炉的技术参数 工作温度：≤1100℃
最高温度：1200℃ 控温方式：智能化可编程控制 升温最快速率：20℃/min 恒温精度：±1℃ 炉门结构：上开式 工作电源：AC220V 额定功率：3KW 故障排除坩锅炉主要应用：
煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径其他说明坩埚炉的技术参数 工作温度：≤1100℃
最高温度：1200℃ 控温方式：智能化可编程控制 升温最快速率：20℃/min 恒温精度：±1℃ 炉门结构：上开式 工作电源：AC220V 额定功率：3KW 交易说明坩锅炉主要应用：
煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径
