BOE蚀刻液常用来作为氧化层图案的蚀刻，BOE的主要化学组成包括氢氟酸（HF）和氟化氨（NH4F），在半导体工业中常广泛使用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层。
氢氟酸是主要的蚀刻成份。
氟发氨是作为氢氟酸的（缓冲剂），以补充氟离子在溶液中因蚀刻反应的消耗。

BOE就是buffer oxide etch.

相关内容:
蚀刻液分类
目前已经使用的蚀刻液类型有六种类型：
酸性氯化铜
碱性氯化铜
氯化铁
过硫酸铵
硫酸/铬酸
硫酸/双氧水蚀刻液。
各种蚀刻液特点
蚀刻液的选择是非常重要的，它所以重要是因为它在印制电路板制造工艺中直接影响高密度细导线图像的精度和质量。当然蚀刻液的蚀刻特性要受到诸多因素的影响，有物理、化学及机械方面的。