新品详情上市时间：2012年1月
创新点:唯一支持静态及动态实验的重量法系统。
在高真空下样品预热可高达400℃。
实验背景压力低至7x10-6mbar。
可使用两种气体，两种蒸汽，或者一种气体与一种蒸汽进行多组分实验。
可传送吸附质的压力低至0.1mbar时的吸附结果。
典型的气体和蒸汽包括：
•二氧化碳•二氧化硫•氢•氩•甲苯•氮•甲烷•水•环己烷•辛•乙醇详细信息技术要点
DVS Vacuum 唯一支持静态及动态实验的重量法系统
DVS Vacuum 提供双重吸附解决方案，可进行包括Henry区段的更高吸附压力的静态吸附实验和更低吸附压力的动态实验。
动态真空的原则
在串联方式达到动态真空条件下，控制吸附物的进入和退出：
1.通过下游的真空泵对样品仓进行抽真空。
2.根据用户设定的流动速率将吸附分子引进仓内－样品仓填满直到达到需要的吸附浓度。
3.下游蝶阀打开来平衡吸附物进出的流动速率。吸附物浓度恒量时，系统稳定运行。
使用真空吸附解决方案的优点
在Henry 区域动态填模式下进行低吸附压力实验，提供了两个关键优势：
确定吸附物的成份
静态系统在进行低吸附压力时会使少量空气渗漏进入样品仓，随着时间推移会稀释吸附物分子。样品仓的总压力开始成为溶剂与渗漏空气的总合。因此实际的吸附物浓度要远比系统传感器显示的结果低，导致实验结果不准确。
使用DVS Vacuum 动态模式可以确保不断消除渗漏的空气，并由吸附物取而代之。因此样品仓内总的测量压力都由吸附分子组成，在Henry区域提供的实验浓度也就是准确的。
滞留时间的控制
DVS Vacuum 在宽广的流动速率的范围内，达到稳定的状态。可控制样品被吸附停留的时间，提供足够的吸附物/基质接触以使得测量数据准确如孔大小分布和吸附动力学。
在静态条件下（A）和动态条件下（B）的吸附分子和
基质。不同的条件下测量出的吸附压力将是相同的。
主要特性
多组分/竞争吸附实验
使用两种气体，两种蒸汽，或者一种气体与一种蒸汽进行多组分实验
高温样品预热器（可选）
在高真空下样品预热可高达400℃
高真空
实验背景压力低至7x10-6mbar
Henry（享利）区域（低吸附浓度）试验。
可传送吸附质的压力低至0.1mbar时的吸附结果（更低压力可通过咨询SMS得知）
使用气体和蒸汽
典型的气体和蒸汽包括：
·二氧化碳 · 二氧化硫 · 氢 · 氩 · 甲苯 · 氮 · 甲烷 · 水 · 环己烷 · 辛 · 乙醇
软件
SMS的系统软件在稳定性、 灵活性、 直观性方面仍然是世界的领先者。通过广泛客户的参与和采纳反馈意见并进行自行设计，SMS让吸附解决方案操作变得更简单。
DVS 真空控制软件――PIRANI CONTROL
Pirani Control 让复杂的实验变的简单化。其直观的、 基于 windows 的、 人性化的界面允许您完全通过计算机控制运行一系列不同的 DVS 真空试验。
DVS 真空数据分析软件――PIRANI ANALYSIS
Pirani 分析利用DVS 真空实验的灵活性，提供广泛的、 人性化的数据分析，边上另有“报表一击生成”功能。
DVS 分析套件――ADVANCED and ISOTHERM
使用DVS 先进的、等温分析套件来阐明关键的理化参数。
示意图和说明
1.温度控制器 ■
实验温度设置范围可以是20℃－85℃
1a.高温样品预热器（可选）可以在高真空条件下将样品预热达400℃
2.真空系统 ■
2a.回转泵 可将真空降至 1.3x10-3mbar
2b.分子泵（可选）
进一步将真空低至7x10-6mbar（与回转泵组合）
2c.蝶阀
调整气体/蒸汽吸附物从系统中减少的比率
通过样品仓提供一个下游压力控制点
2d & 2e.气体/蒸汽压力传感器
测量与反馈气体/蒸汽吸附压力，
范围：1013mbar － 0.1mbar
3.真空 manifold ■
主要构件都采用316不锈钢 4.气体/蒸汽注射系统 ■
DVS真空系统可以利用一种气体或蒸汽，
两种气体或蒸汽，一种气体和一种蒸汽的混合，
提供多种浓度的水、有机蒸汽和气体的浓聚物。
4a - 4f.上游吸附压力控制
热导质量流量控制器（MFCs – 4a and 4b）掌控着吸附的进入。
下游吸附压力控制
吸附减少率由下游蝶阀控制（2c）。
5.系统微量天平 ■
吸附物在吸附临界解吸附的记录值作为样品质量
样品质量：高过 1.0g
分辨率：0.1 μg
质量变化：高达±150mg
6.电脑控制和软件 ■
控制实验参数和连续记录并保存数据以便日后数据分析
