北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯氮化硅（SiN)靶，高纯氮化硅（SiN)靶材，氮化硅（SiN)靶以及氮化硅（SiN)靶的相关产品，产品规格如下：

1、 高纯氮化硅（SiN)靶材的纯度为，99.9%，99.99%高纯氮化硅（SiN)靶的分析单会在发货同时发出。

2、 高纯平面氮化硅（SiN)靶材的常用规格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。

3、 高纯磁控溅射氮化硅（SiN)靶材常用规格：Ø100*80，等。

4、 高纯蒸发镀用氮化硅（SiN)丝：直径Ø0.3-5。

5、 蒸发镀用高纯氮化硅（SiN)粒：10*10，6*6，3*3，2*10等规格。

6、 高纯氮化硅（SiN)靶材的生产工艺为真空熔炼，粉末冶金，等静压等。

7、 高纯氮化硅（SiN)靶材的规格可根据客户要求定做，也可以根据各种图纸加工。

8、 北京冠金利新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下：1各种高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，氮化硅（SiN)，氮化硅（SiN)，锡，钴，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲，镓，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，铍，砷，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。

9、 2各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、氮化硅（SiN)靶Ni、钛靶Ti、氮化硅（SiN)靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La  金靶Au 等。

10、            合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、氮化硅（SiN)钴Ni-Co、氮化硅（SiN)铁Ni-Fe、氮化硅（SiN)铬Ni-Cr、氮化硅（SiN)锆Ni-Zr、氮化硅（SiN)铝Ni-Al、氮化硅（SiN)铜Ni-Cu、氮化硅（SiN)钒Ni-V、钨钛W-Ti、氮化硅（SiN)铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝  V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。

11、             陶瓷靶材
　　ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化氮化硅（SiN)靶、硫化氮化硅（SiN)靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化氮化硅（SiN)靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化氮化硅（SiN)靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。  

                                      注所有产品规格可根据客户要求定做。