简介

韩国INFINEX 集团的ASC4000系列匀胶机（旋涂仪）在上一代ASC匀胶机基础进行了新的设计，广泛应用于晶片，光学和平板显示基片的旋涂工艺，其良好的匀胶性和高速平稳的速度使得匀胶厚度从厚至薄都始终保持高度均匀。可以满足高校，国家实验室及研发中心的相关应用；ASC系列匀胶机具有准确性，可重复性和稳定性，能提供最好的旋涂匀胶性能。

产品特点

1）台式匀胶机，涂膜厚度范围：100nm~100um；

2）可用于光刻胶(PR)，聚酰亚胺(Polyimide)，金属有机物(Metallo-organics)，搀杂剂(Dopant)，硅薄膜(Silica Film)，以及大多数的有机溶液、水溶液；

3）紧凑型设计，用户编辑、控制、存储、取出涂胶程序，易于操作；

4）提供±1rpm的高精度转速，加速及减速速率基于设定的时间/转速(Ramp Time/RPM value)自动计算； 

5）配置7英寸触控屏及智能操作系统，可以实时监控整个匀胶过程，用户通过匀胶机前面板显示屏和按钮进行编辑、控制、存储、取出涂胶程序，并进行实验操作。

仪器介绍

匀胶机有许多名称：甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等,主要应用于溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃(ITO,FTO)及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。