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磁控溅射溅射靶材、NiO靶材、陶瓷靶材、合金靶材
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500.00
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中诺新材(北京)科技有限公司
中国 北京
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产品属性
图文详情
品牌推荐
加工定制
是
种类
化合物半导体
高纯氧化镍
靶材(
NiO)
物理性质
颜色
绿色
密度
7.45g/cm3
熔点
1990
℃
技术指标
纯度
99.99%
(
4N
)
致密度
>
95%
切面平整度
优
公差
±0.1mm
折射率
2-2.1
透明波段
0.52um
材质
NiO
品牌
ZNXC
产地
中国北京
产品规格
平面靶,可按客户要求定制
单靶最大尺寸:
300*150mm
制作工艺
真空烧结、热等静压
适用仪器
磁控溅射
产品用途
陶瓷和玻璃工业上,可以制造半导体薄膜,还可以作有机化合物氧化过程中的催化剂,电池与半导体器件
产品优点
不纯物元素含量极低
产品认证
ISO9001
:
2008;SGS;
第三方认证
配套材料
钛靶、铜靶、镍靶等金属单质靶材
背靶服务
1.
靶材背板,包括无氧铜,钼,铝,不锈钢等材料,产品形状可根据需求订货;
2.
靶材金属化处理;
3.
同时提供靶材与背板的焊接服务。
包装方式
真空包装
运输方式
韵达、顺丰、
EMS
付款方式
电汇、款到发货
最小起订量
1
片
供货能力
持续稳定
交货期
7-20
天
高纯三氧化钨靶材 99.99%
¥1000.00元
半导体材料、供应镀膜用AZO靶材、氧化铝靶材、氧化锌靶材
¥900.00元
磁控溅射溅射靶材、NiO靶材、陶瓷靶材、合金靶材
¥500.00元
高纯锗颗粒 99.9999%
¥16000.00元
显示屏用AZO靶材
¥800.00元
镀膜用AZO靶材
¥900.00元
原料辅料、初加工材料
>
电子与功能材料
>
半导体材料
>
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