适用范围：生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、光学镜片、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。水质可达最高可达18.3兆欧，符合电子行业生产所需超纯水水质要求。我公司曾为国外很多知名电子工业厂家制作工业超纯水设备。

工艺流程：
1、预处理－反渗透－水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象2、预处理－一级反渗透－加药机（ PH调节）－中间水箱－第二级反渗透－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象
3、预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象
4、 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象

水质：水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）

材质：钢衬胶 不锈钢 有机玻璃等

流量（m3/h）：0.1-500