特点:

• 1、具有卓越的出光速度和特殊的整平功能。低电位，光亮填平佳；
• 2、镀层不易产生针孔、麻砂，无须除膜，与镀层结合力好；
• 3、光亮剂消耗量少，使用简便，镀液稳定，容易控制；操作温度范围宽，10-40℃都可以达到全光亮镀层；
• 4、与其它进口著名品牌兼容性好，实际应用优于进口著名品牌，便于转缸。

工艺规范:

镀液的维护:

• 1、GRUB-Mu 作用：支持A剂、B剂，获得高整平光亮镀层，有利于消除针孔，麻砂。消耗量：40-50ml/KAh。
• 2、GRUB-A剂 作用：有利于扩展光亮范围，尤其对低电流密度区有光亮均镀作用。消耗量：50-70ml/KAh。
• 3、GRUB-B剂 作用：有利于提高电流密度上线，使高电流密度区整平光亮，不至于烧焦。消耗量：50-70ml/KAh。。

镀液配制:

• 与传统工艺相同