用途特点：
该机采用了三套磁控溅射平面靶，两个缝隙离化源，具有高压清洗和辅助沉积作用，用一种新的工艺方法，镀制各种金属表面的装饰膜，功能膜，纳米超硬膜及各种复合膜，适合于手机外壳，模具工具，冲头，活塞环，表面摩擦系数小，硬度高的制品，该机采用半自动及全自动计算机控制系统。

主要技术指标：
1、工作室尺寸：Φ1000×1200mm，立式，全部不锈钢。
2、极限真空5×10-4帕（清洁空载）；
3、恢复真空时间：从大气抽至6.7×10-3帕≤10分钟（清洁空载）；
4、磁控源功率：20KW（3套）；
5、加热源16KW。
6、转动方式：公自转挂式
7、总功率：100KW
8、充气系统：四路充气（复合真空计1台，3流量控制2套）

机组配置：
德国600扩散泵1台，2X-70泵1台，ZJP-600罗茨泵1台，2X-15泵1台。

电源配置：
1 中频脉冲磁控源（3套）
2 中频脉冲偏压1套
3 计算机触摸式整机控制中心柜1台。