1、特性
1)FMR是负性感光抗蚀剂，有较好的耐酸、耐酸性。
2)FMR的解像性比较好，由于抗蚀剂中的金属离子含量极少，所以适合于半导体管（电晶体）、二极
体、IC（积成电路）和LSI（大规模高密度积成电路）等方面使用。
2、 使用方法
1)表面处理
对金属板进行完全的脱脂、脱锖，请用本公司的Neocupron(用水稀释5-10倍)和弱碱水（2%氨水进行中和，脱脂后请充分用水洗。
2)涂布处理
可用多种涂布方法如旋转、浸蘸、喷涂等。
3)烘干
置入热风恒温干燥器中，80-100℃，20分钟：或置于加热板上，80-100℃2分钟。
4)曝光
用i线（365nm）~g线（436nm）曝光。
5)显象
使用FMR显像液，在常温下显影1分钟，用FMR洗涤液冲洗澡间30秒。
6)烘烤
在150℃的情况下，加热20-30分钟，或置于加热板上，150℃，3分钟，可提高耐腐蚀性。
7)蚀刻
按常规处理
8)剥膜
使用FMR剥膜液，在常温下浸渍2-3分钟，然后用水洗。
