物理性质  颜色 钢灰色
密度 2.4g/cm³
熔点 1414℃
技术指标  纯度 99.999%
相对致密度 >99%
切面平整度 3.2Ra
公差 ±0.1mm
晶粒度 均匀
材质 冠金利-SiO2
品牌 冠金利-二氧化硅
产地 北京市
产品规格  尺寸01：直径1mm （圆片/圆台/圆棒）
尺寸02：长度<300mm 宽度1mm   矩形/片材/台阶状(可拼接）
 尺寸03：外直径1mm（管材/圆环/旋转靶材）
 尺寸04：:根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工
最少起订量 1片，量大优惠
供货能力 同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月min
交货期 单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日）
制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
适用仪器 各类型号磁控溅射设备等
产品用途 工业级镀膜，实验或研究级别用硅靶材，电子，光电，，装饰，功能薄膜等
产品优点  质量可靠，价格优惠
 真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少
 轧制致密，氧化少，成型可塑
 相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式 国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦）

北京冠金利新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下：金属单质及部分合金靶材：铝靶Al，银靶Ag，金靶Au ，钴靶Co，铬靶 Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，钛靶Ti， 锌靶Zn ，镁靶Mg ，铌靶Nb ，锡靶Sn，铟靶In， 铁靶Fe 锆靶Zr 铂靶Pt 钽靶Ta 锗靶Ge 硅靶Si 钨靶 W铪靶 Hf钆靶Gd 钐靶Sm,镝靶Dy，铈靶Ce，钇靶Y，镧靶La，铼靶Re，钌靶Ru，钯靶Pd，铑靶Rh，铋靶Bi，钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝　V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等

陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2 二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2, 二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，

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