供应TWSAC4真空发生器|零件表面残留物分析,真空发生器首选世安！

去油方法2 中清洗剂组分是氢氧化钠、磷酸钠、硅酸钠，表面活性剂成分(磺酸类)，将铁、钴、镍基

材的A 零件经过去油方法2 去油后，通过XPS 表面分析技术来分析表面的残留情况，由于表面活性剂很

容易残留零件表面，所以分析时特别注重活性剂的残留分析，分析的谱图如图2：谱图表明没有清洗剂成

分及活性剂残留，若有活性剂残留，就会有硫元素存在，谱图中结合能170 eV 左右没有硫元素谱，因此

无活性剂成份残留现象。

东莞世安提供的CV4真空发生器具有真空发生器、压力开关、消音器一体化特点，可搭载真空开关

    CV4真空发生器参数概述

    CV4真空发生器详细参数

东莞世安提供的CV4真空发生器具有真空发生器、压力开关、消音器一体化特点，可搭载真空开关。
CV4真空发生器型号

CV4真空发生器规格

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真空发生器的工作原理是利用喷管高速喷射压缩空气,在喷管出口形成射流,产生卷吸流动.在卷吸作用下,使得喷管出口周围的空气不断地被抽吸走,使吸附腔内的压力降至大气压以下,形成一定真空度. 世安销售的真空发生器的真空度是经过三道工序测量了之后才上市的，有利的保障了产品的性能。

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CV4真空发生器其他参数见PDF附件！

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　　目前金属零件的去油方法很多，以表面活性剂为主体的水基清洗成为金属清洗行业的主要发展方向

，各行业中使用的水基清洗剂成分很复杂，主要含有表面活性剂、助洗剂、缓蚀剂、助溶剂、消泡剂、

乳化剂等各种成分，而市售的水基清洗剂成分含量不稳定，不适合有特殊要求的电真空器件的清洗，因

此自行研究、确定和固化清洗去油方法或工艺对于有特殊要求的电真空行业是很重要的。