主要用途：
微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水。
工艺流程一：反渗透+混床
工艺流程二：反渗透+EDI设备

应用领域：
半导体村料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水、实验室和中试车间用超纯水、电子产品。