本产品以纳米SiO2
为研磨材料,分为酸性和碱性两种产品;特别适用于不锈钢、铝合金等金属工件表面的镜面抛光工艺,也可应用于铜、锌合金、贵金属的抛光,金属工件用本产品抛光后可形成镜面效果。本产品采用国际先进技术制备而成,具有去除速率快、抛光后表面粗糙度小、镜面光洁度高且抛光后表面易清洗等特点。
使用工艺
(1)工艺参数
抛光温度:30~45℃
抛光压力:150~250g/cm2
抛光液流量:150-500mL/min
(2)操作规程
将本品用纯水稀释10~20倍,搅拌均匀后即可使用,客户可根据自己对产品去除厚度的要求确定具体的抛光时间。