本产品适用于各半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程清洗，同时对晶片表面颗粒物、指纹等污染有超强的洁净能力，清洗后表面无残留，对被清洗表面有轻微腐蚀性。

     本产品为A/B组分，均为透明液体，使用时在原液中加入10-15倍纯水，可配合超声或兆声设备使用，也可在特定温度（<85℃）下浸泡清洗。本品为水基配方，不含有毒有害成分，残液排放15天可自然降解。