l  适用于硅片/蓝宝石/砷化镓/锗片等半导体材料的RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子清洗、及颗粒物去除等

l  可根据工艺需要装配聚偏二氟乙烯（PVDF）、聚四氟乙烯（PTFE）、石英（quartz）、不锈钢（SUS）、聚丙烯（PP）、聚氯乙烯（PVC）等化学溶剂槽、超声/兆声清洗槽、QDR（喷淋、快拍、鼓泡、溢流、快速注水）清洗槽、DIW清洗槽等。

l  根据操作方式可分为手动、半自动、自动。

l  设备可装配机械手、自动供液、循环过滤、机械抛动、排风系统、安全防护门、自动灭火装置、漏液检测等。

l  可根据客户需求定制。