准分子紫外光清洗机

□ 自主知识产权，国际前沿光子处理技术；

□ 国际上玻璃清洗制程的主流技术；

□ 高效快速清洗；

□ 低温大面积加工过程；

□ 瞬间开启和熄灭，节省工艺时间；

□ 安装角度灵活方便，操作使用简单；

□ 电光转化效率高，无废旧回收问题，节能环保；

□ 工件可在大气中进行清洗，便于生产线作业；

□ 可彻底清除物体表面的碳和有机污染物；

□ 干式清洗，无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题；

□ 保证产品的高可靠性和高成品率；

□ 产品表面清洗处理的均匀度一致。

应用领域：

主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。

主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。

可以去除的污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。

技术参数：

项目                                       EWC70翻盖型 （Desktop Style）

适用工件尺寸                                         4-12 inches

光源配置                                                 1x172 nm           

输出波长                                         172 nm

单灯最大光强                                         40 mW/cm2

光照均匀度                                             ±3% （工件旋转时）

光照时间设定                                         定时器，0-60 min

额定功率                                                 70 W

功率可变范围                                         0-100%

灯启动时间                                             < 1 s                            

真空反应腔                                             SUS304不锈钢

观察视窗                                                 KF50视镜（可选）

工件台                                                     可调高度，静止/旋转（可选）

工件装载方式                           打开翻盖，露出工件台，装卸工件

进出气口                                        标配2个，KF15法兰接口

真空系统配置                                         机械泵（可选）

真空计（10-1Pa）及接口                       KF15法兰接口

臭氧中和器和排气系统                         可选

供电电源                                                 230V/50Hz

“ON”指示器                                       有

外观尺寸(长x宽x高)                           500x500x400 mm