本装置是为了运用短波长紫外线进行表面处理、干式清洗的效果而作的试验机。所使用的光源为160mm*160mm1１0W合成石英玻璃的面光源。
本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。为方便运输，将本体机体和电源分开设计。同时我们还有例如200mm角300mm角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。
构成和构造
光源到试验台之间最大有80mm距离，因此无论是胶片型还是立体物品都可以处理。照射距离可使用手动升降机调节高度。
在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。
PL16-110
电 源品名：UE1101N-19
尺寸：160×655×150 H（mm）
重量：8kg
电压：AC 100V 50/60 Hz
功率：250W
时间累计器：照射时间累计器，显示灯管总照射时间
照射时间：0.1S～999H
灯 具品名：PL16-110
尺寸：300×250×300 H（mm）
重量：10kg
UV照度：※1 18 mW/cm2 （照射距离10mm、测定波长254nm）
照射距离：0～80mm（手动高度调节器）
照射平台钢板、采用手动高度调节器（非固定）
照射平台大小：160×160 (mm)
灯管规格：160×160 (mm)
灯管型号：SUV110GS-36（材质：合成石英玻璃）
灯管瓦数定格：110W
冷却方式：强制空冷
PL17-110
电 源品名；UE1101N-19
尺寸：160×655×150 H（mm）
重量：8kg
电压：AC 100V 50/60 Hz
功率：250W
时间累计器：照射时间累计器，显示灯管总照射时间
照射时间：0.1S～999H
灯 具品名：PL1７-110
尺寸：300×250×300 H（mm）
重量：10kg
照射距离：0～80mm（手动高度调节器）
照射平台钢板、采用手动高度调节器（非固定）
照射平台尺寸：160×160 (mm)
灯管规格：160×160 (mm)
灯管型号：SUV110GS-36
灯管瓦数：110W
冷却方式：强制空冷
PL28-200
机器类型清洗机用途工业用
型号：PL28-200
工作电压：100-200（伏） PL28-200-采用200瓦低压水银灯，旋转型照射平台，可使被照射物均匀照射。照射平台高度可调节，照射距离0-50mm。
照射炉和电源分开，方便搬运和设置。
具有 体积小，照度强，搬运方便等特点。
一.紫外线表面清洗主要原理
紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有废水，废气，废物产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域。
紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。
其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。
二.SEN紫外线UV光表面处理技术:利用光能进行高端的表面改质和干式清洗,具有四大优点：
1.可在大气中处理,使用方便
2.可根据被照射物形状设计灯管形状及设备
3.不同于其他处理方式(如酸洗处理后的表面会留有很多腐蚀孔),对物体表面没有损伤,保持平滑性
4.SEN紫外线UV光清洗优点:(1)照度高,照射时间短.(2)低运行成本:灯管寿命长,光衰低.(寿命5000~7000H)
三。UV紫外光清洗技术应用范围:
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;
2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；
4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生
9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果更好。
11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。
14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高
15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。
16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。
典型应用包括：
·表面的原子级清洗
·聚合物粘接
·去除有机分子
·释放捕获的无机分子
·微流控制作
·微米/纳米构型
·紫外光固化
·表面化学改性
·表面杀菌
·表面氧化
·金属粘结准备……
.光酸化水处理,促进酸化水处理
.光重合反应
SEN UV光清洗, 短短几十秒, 表面超洁净 !
