NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪，既有高精密度和准确度的局部（Local）SPM扫描，又具备大尺度和高测量速度；既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌，又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理，在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学，工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。

美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造，是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。

NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪技术特点

• 常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的完美结合。
• 双模式操作（针尖扫描和样品台扫描），即使在长程测量时也可以得到最优化的小区域三维测图。
• 针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式，三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。
• 在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。
• 针尖扫描采用双光学传感器，同时拥有宽阔测量动态范围（最大至500μm）及亚纳米级垂直分辨率　（最小０.１nm ）
• 软件设置恒定微力接触。
• 简单的2步关键操作，友好的软件操作界面。

应用
 

• 三维表面轮廓测量和粗糙度测量，即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。
• 薄膜和厚膜的台阶高度测量。
• 划痕形貌，磨损深度、宽度和体积定量测量。
• 空间分析和表面纹理表征。
• 平面度和曲率测量。
• 二维薄膜应力测量。
• 微电子表面分析和MEMS表征。
• 表面质量和缺陷检测。