紫外光臭氧清洗系统
THEMIS深度紫外臭氧清洗与反应系统，是一部应用深度紫外辐射（主要光波是184.9nm及253.7nm）达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备，由中科院与芬兰资深专家合作设计，重要部件的制造以及调校由航天部高级工程师亲自完成。
产品参数介绍：
型号 | UVO-4 | UVO-8 |
UV光波 | 253.7nm和184.9nm |
清洗面积 | 12cm×12cm（4.5inch） | 20cm×20cm（8inch） |
光照强度 | 最高达50mW/cm2，实时显示 |
时间设置 | 0-9999s任意设置，实时数字显示 |
温度监视 | 精度0.1℃，实时数字显示，可平滑控制 |
物台调高 | 范围：0mm～35mm，精度：1mm |
灯管材质 | 固态金属双波汞灯 |
灯管功率 | 125W | 250W |
灯管形状 | 格栅式灯管 |
灯管寿命 | 10000 小时 |
整机尺寸 | 550mm宽×310mm高×670mm长 |
警示保护功能 | 有 |
臭氧排风系统 | 有 |
电源参数 | 220V/AC/50Hz |
整机功率 | 150W | 280W |
整机重量 | 25KG |
应用领域 | ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。 |
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