基板：ITO玻璃 (30?)

膜厚     ：1.62μm

前烘：100℃X 90sec. (热板)

曝光：宽曝光度

显影：0.8% KOH X 60sec.

后烘：120℃X 120sec. (热板)

蚀刻：HNO3：HCl：H2O = 4：23：73 @ 40℃

剥离：3.0% NaOH @ 50℃X 120sec.