氧化亚硅
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产品名称 |
分子式 |
纯度(%) |
形状 |
规格(mm) |
熔点（℃） |
折射率(550nm) |
透光范围（nm） |
密度(g/cm3) |
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一氧化硅粉
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SiO |
99.99
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粉末 |
1mm～2μm
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1705
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1.8~1.9
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700-9000
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2.1 |
1702℃。沸点1880℃。溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸。在空气中加热时生成白色的二氧化硅粉末。由纯度99.5％的二氧化硅粉末与煤沥青粉末(或硅粉)以C/SiO2=1.3或Si/SiO2=1.2配比混合，放入电加热的真空炉，注入非氧化性气体(如氩、氢等气体)，高温反应，制得超细(0.1/μm以下)无定形氧化硅。极富有活性。固态一氧化硅可作绝缘材料。
主要用途：作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。
操作与贮存：严禁潮湿和高温地点存放。
包装方法：
危险性质：
质检信息：
项目 光学镀膜靶材专用
纯度(%)SiO ≥99.95
杂质含量(%)
Fe ≤0.002
Ca ≤0.003
Al ≤0.005
Mg ≤0.005
B ≤0.001
Cu ≤0.003
C ≤0.003
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名称 |
规格/含量 |
包装 |
参考价格 |
备注 |
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一氧化硅 |
4N |
25kg |
359.00 |
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一氧化硅 |
99.99%,200目 |
25kg |
599.00 |
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一氧化硅 |
99.99%,200目 |
25kg |
856.00 |
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