镭射转移膜涂布工艺（切面单组份）
一：成像层涂布工艺
主剂型号：KS-12
固含量：36%
稀释剂： 乙酯：环已酮== 5：1
主剂：稀释剂==1：1.2
涂布温度：80℃--110℃--135℃--115℃--100℃
涂布机速：80--120米/分
涂布网辊：200目
干涂布量：0.85—0.95克/㎡
模压温度：160--180℃ （软压油温）
涂布要求：1，KS-12涂料涂需要密封保存，当开桶以后如果没有用完，最好密封保存好，避免其化学物污染。
2，涂布均匀，透明度好。可采用软压或硬压方式进行模压，模压温度随着亮度调节。
产品说明：该涂镭射料结合离形层为一体，生产镭射转移膜时，只需要直接涂布镭射涂料，之后模压和镀铝。工艺简单，模压温度低，不会沾板等优点。
二：背胶涂布工艺
型 号：B5013
固含量：20%
稀释剂：乙酯
配料：主剂：稀释剂==1：2.5
涂布机速：100-150米/分
涂布温度：135℃
涂布网辊：200目
干涂布量：0.32—0.45克/㎡
