镭射全转移膜涂布工艺

一：成像层涂布工艺

主剂型号：KS-12

固含量：36%

稀释剂： 乙酯：环已酮== 5：1

主剂：稀释剂==1：0.8

涂布温度：80℃--110℃--135℃--115℃--100℃

涂布机速：80--120米/分

涂布网辊：200目

干涂布量：1.1—1.2克/㎡

模压温度：160--180℃ （软压油温）

涂布要求：1，KS-12涂料涂需要密封保存，当开桶以后如果没有用完，最好密封保存好，避免其化学物污染。

2，涂布均匀，透明度好。可采用软压或硬压方式进行模压，模压温度随着亮度调节。

产品说明：该涂镭射料结合离形层为一体，生产镭射转移膜时，只需要直接涂布镭射涂料，之后模压和镀铝。工艺简单，模压温度低，不会沾板等优点。

  二：背胶涂布工艺（皮革转移膜，透明液体，具有高弹性）

型 号：B5021A

固含量：20%

稀释剂：甲苯：乙酯==1：2

配料：主剂：稀释剂==参照客户要求

涂布机速：100-150米/分      涂布温度：150℃

涂布网辊：180--200目     干涂布量：参照客户要求