设备应用于半导体、微电子、COG前、LED制程、器件封装前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。
该设备等离子体频率13.56MHz；射频电源功率0～500W可调。
QT-36-PSP等离子体清洗机的工作原理是在真空状态下，利用射频电源使得氧、氩、氢等气体生成具有高反应活性的粒子，与有机污染物反应形成挥发性化合物，然后由工作气体流将这些挥发性物质清除出去。
各主要功能部件结构及工作原理如下：
1)反应仓：采用不锈钢制造，是进行等离子体清洗的工作区。
2)骨架：是设备的机械支撑。
3)供气系统：为等离子体清洗提供特定的工作气体。
4)射频电源：产生13.56MHz的高频电源，激发等离子体。
5)真空系统：用于抽真空，以提供合适的工作压力。
6)控制系统：对整个设备进行控制，可实现多种工作模式。
主要性能指标
1)外形尺寸:W720×H1600×D670（mm） 外观喷塑处理；
2)反应仓尺寸： W340mm×H300mm×D3mm；
3)系统电源：380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz ；
4)反应仓温度：≤80℃ ；
5)设备功率：≤3kW ；
6)气体流量：(0～200)ml/min ；
7)工作真空度：(10～1000)Pa ；
