真空井式坩埚炉由石英坩埚（或氧化铝坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片；也可用于烘烧或烧结陶瓷材料

炉膛尺寸：可定制

最高温度：1600度（1200℃）

工作温度：1500度（1100℃）

控温方式：智能化30段可编程自动控制

加热元件：硅钼棒（含钼电阻丝）

炉膛材料：氧化铝纤维

炉      壳：双层风冷结构

热 电 偶：B分度

升温速率：≤15度/分钟

恒温精度：±℃

最大真空度：-0.1Mpa

额定功率：可定制

有半成品，可尽早供货。