设备别名:气氛炉 真空气氛炉 箱式气氛炉咨询电话15906187250
真空气氛炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域的生产及实验。
在粉末冶金中,真空烧结主要用于烧结活性金属和难熔金属铍、钍、钛、锆、钽、铌等;烧结硬质合金、磁性合金、工具钢和不锈钢;以及烧结那些易于与氢、氮、一氧化碳等气体发生反应的化合物。
一、真空箱式炉应用领域
该真空箱式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点
炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体,能抽真空,真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
三、真空箱式炉规格型号
设备型号 | TSZ-8-13 | TSZ-10-13 | TSZ-12-13 | TSZ-12-13 | TSZ-15-13 |
温度 | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ | 1360℃ |
控制精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
炉膛尺寸(mm) (W×H×L) | 200*200*500 | 300*300*630 | 300*300*1260 | 300*300*1470 | 300*300*1680 |
发热元件 | Φ12*650硅碳棒 | Φ12*750硅碳棒 |
真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa |
冷态压升率 | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h |
功率 | 12Kw | 30kw | 60kw | 80kw | 100kw |
温控方式 | 可控硅模块自控 |
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