增透膜镀膜设备除了可采用电子枪镀膜外，现还可使用磁控溅射镀膜镀膜。采用磁控溅射做主要成膜手段，适合于AR膜的大规模镀膜生产，其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。

技术特点：

1、磁控溅射成膜膜层致密，温漂小、机械强度高、光谱性能稳定。

2、在线膜层厚度和工件反射率测量，产品一致性好。

3、立式双开门，装载量大，生产效率高，每日可生产AR膜100平方米。

主要配置：

1、真空室：直径1600mm,高度：1950mm

2、可镀面积：AR,5平方米

3、四对圆柱靶

4、石英晶体在线膜厚测量系统和光谱反射率在线测量系统

5、双K800扩散泵或四台400口径分子泵机组加深冷机组。

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