大型双面研磨机主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、光学玻璃、铌酸锂、砷化钾、陶瓷片等薄脆金属或非金属的研磨或抛光。

　　大型双面研磨机主要特点：

　　1、采用交流变频电机驱动，软启动、软停止，平稳可靠。

　　2、油压升降齿圈、非常平稳，太阳轮下有垫片可调整位置，有效利用了齿圈和太阳轮。

　　3、上盘单独设置了缓降气缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。

　　4、通过使用电子预置计数器，研磨的圈数、要求可准确控制。

　　5、可以采用修盘方式修整研磨盘。

　　6、可与ALC(频率监控仪)连接。

　　大型双面研磨机技术参数：

　　1、研磨盘直径(MM):φ849×φ274×30

　　2、最大理想研磨直径(MM)：φ270

　　3、加工件平面平行度：0.2μ(φ10)

　　4、游轮参数：英制DP12，Z=150

　　5、游轮数量：5个

　　6、最小研磨厚度：0.15mm(φ10)

　　7、主机功率：5.5KW(研磨)7.5KW(抛光)

　　8、下研磨盘转速(rpm):0~60

　　9、砂泵功率：370W

　　10、流砂形式：循环或点滴

　　11、设备外形尺寸(MM)：1250×1540×2780

　　12、重量(KG)：~3200

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