显影液：氢氧化四甲基铵（化学名），主要用于LED、IC、LCD制造用光刻胶的显影剂，电子级四甲基氢氧化铵（TMAH）在电子行业中广泛用作硅晶片清洗剂、正胶显影剂、蚀刻剂。我司的TMAH为2.38％；

DPD-230：氢氧化四甲铵（化学名），主要用于LED、IC、LCD制造用光刻胶的显影剂，适用于东进及其他公司的I-line 及G-line 光刻胶。可防止和减少钠离子的污染，改善应用性能，其湿润性良好，且表面张力大， 晶片表面内尺寸变化小，显影液温度对于曝光量的依赖性低， 显影液气泡少，显影干净、亲和力性能好等优点，有利于提高分辩力。