FMR是负性感光抗蚀剂,有较好的耐酸,耐酸性.
FMR的解像性比较好,由于抗蚀剂中的金属离子含量极少,所以适合于半导体管(电晶体),二极体,IC(积成电路)和LSI(大规模高密度积成电路)等方面使用.
使用方法:
1表面处理,对金属板进行完全的脱脂,脱锖,请用本公司的Neocupron(用水稀释5-10倍)和弱碱水(2%氨水)进行中和,脱脂后请充分用水洗.
2涂布处理,可用多种涂布方法如旋转,浸蘸,喷涂等.
3烘干,置入热风恒温干燥器中,80-100℃,20分钟:或置于加热板上,80-100℃2分钟.
4曝光,用i线(365nm)~g 线(436nm)曝光.
5显象,使用FMR显像液,在常温下显影1分钟,用FMR洗涤液冲洗澡间30秒.
6烘烤,在150℃的情况下,加热20-30分钟,或置于加热板上,150℃,3分钟,可提高耐腐蚀性.
7剥膜,使用FMR剥膜液,在常温下浸渍2-3分钟,然后用水洗.

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