适用范围：化学蚀刻玻璃
厚度：0.13（mm）
用途：玻璃OGS二次强化抗酸膜
100μ m 以上的延伸性裂痕(crack)，若要利用化学二次强化方式修补这样范围的延伸性裂 痕，则会产生明显的玻璃边缘水波纹，对于现今OGS 产品都走非遮蔽式的模块结合制程，水 波纹没有办法借由模块框遮蔽，将会有外观不良的问题。而选择较佳的切割方式如调整切割 下刀深度、切割角度，或是采用雷射切割方式，找到较佳的切割方向是必须的。另外，切割 后的玻璃段面研磨(精雕)也是影响二次强化的主因之一，选择较高番数的砥石去进行磨边， 降低延伸性裂痕的程度，将有助于化学二强的修补效果，但过高番数的精雕制程耗时且成本 高，亦不具量产性。 (3)抗酸膜或是抗酸油墨的制程手法与涂布精度：目前化学二次强化业界都采用抗HF 的薄膜进行贴附，在OGS 制程流程(如图11)为在母基板 (sheet)切割为成品(chip)之后，将 抗酸膜贴附在chip 上，然后将chip 装置在Cassette 中入HF 蚀刻槽中进行玻璃段面微蚀刻 制程，因此，抗酸膜贴覆的精度与气泡是否存在则关系到HF 时刻的效果，倘若抗酸膜贴覆精 度不佳则会影响OGS 玻璃边缘的外观，严重者侵蚀到BM 边缘，产品则需进行BM 补色制程， 降低产能。若是气泡产生则可能侵蚀到OGS 上面的金属线路(metal or ITO pattern)，产品 无法重工需报废处理，若气泡出现在玻璃段面则会遮蔽强化的效果造成凸点，凸点将使 OGS 产品产生组装不良的问题。近期发展出抗酸油墨制程，其成本低(约1/4 的抗酸膜成本)，不 过技术上仍然有瓶颈存在，包括印刷精度问题和抗酸能力问题需要作提升。 五. 化学二次强化制程与问题讨论—制程条件部分0 z9 z2 l, e7 p: U 化学二次强化制程相关的因素有：(1)HF 化学成分与浓度的监控(2)化学蚀刻制程温度的 管控(3)玻璃砂过滤处理问题( 4)蚀刻槽体较佳流场设计与过滤系统整合。 (1) HF 化学成分与浓度的监控：由于化学二强主要是利用 HF 微蚀刻玻璃段面因切割 产生的延伸性裂痕，使裂痕缩小甚至消失来提升产品的4pb 能力，因此在制程中HF 浓度会因 为蚀刻SiO2 而逐渐下降，影响到制程蚀刻速率，所以维持一定的HF 浓度，稳定蚀刻速率是 化学二强的制程重点。依据化学方程式说明(如图12)，HF 和SiO2 反应会生成氟化硅(SiF4)， 在水中会水解生成氟化硅和氟酸，氟化硅与氟酸生成氟硅酸(六氟硅酸)，六氟硅酸可溶于水 纯 H2SiF6 不稳定，容易分解生成 HF 和 SiF4。由 GPTC 二强实验数据(如图 12)得知 H2SiF6 的增加会影响蚀刻速率(Etching Rate;ER)的下降，因此化学二次强化制程除了定时监控 HF 浓度外，一般会在固定时间或是固定量的投产批次内，将HF 槽内的旧酸排放更新，让蚀刻速 率回复水平。技术上来说使用氟离子侦测器或是水阻值计测量HF 槽内的浓度或是水阻值表现， 可计算出氟离子的浓度。另外，加入副方化学成分如HCl、CH3CO2H 对于蚀刻厚的玻璃表面也 有不同的修饰效果。; ^. {8 ]0 C( w- d ( l+ b0(2) 化学蚀刻制程温度的管控：蚀刻制程为放热反应，若温度控制无法在适当的制程 温度范围内将影响蚀刻速率的快慢。如图13 两组实验数据讨论所示，数据1 玻璃蚀刻为放热 反应：起始温度 28.1 ℃升至35.4 ℃à 提高7.3 ℃，数据2 玻璃蚀刻为放热反应：起始温 度 34.8 ℃升至36.9 ℃à 提高2.1 ℃，不同起始温度经过长时间取样测量发现蚀刻温度逐 渐增加，又蚀刻温度影响着蚀刻速率的变化，故选择一个温度点可接近放热反应的最终温度， 可以稳定蚀刻速率和制程速率，这是化学二次强化制程调控上的重点。 j4 G5 e$ T6 B6 X! } (3) 玻璃砂过滤处理问题：- M7 `2 l6 |7 M3 N W2 L/ X HF 与SiO2 反应会生成H4SiO4，而H4SiO4 会沉淀下降形成所谓的玻璃砂，在蚀刻制程中 若蚀刻时间越久，蚀刻玻璃的量就会越多，而玻璃砂就产生越多，玻璃砂若沉积在蚀刻槽体 没有排除将影响玻璃蚀刻速率与表面质量，因此玻璃段面就容易出现凸点或是蚀刻不均的现 象，影响蚀刻后的机械强度和模块的组装质量，所以化学二强制程中玻璃砂的过滤效果是否 良好将决定产品出货时的良率状况。9 G2 x; a9 G; n4 ~$ V9 Y (4) 蚀刻槽体较佳流场设计与过滤系统整合：% m5 v1 l* ^- ~7 f& S+ H 若槽体流场设计不佳会导致玻璃砂无法有效的由玻璃表面带走，也会影响产品的质量， 较佳的流场设计也会让酸液在最短时间内有效的混合均匀，让槽体各部位的蚀刻能力达到一 致性，让产品蚀刻均匀度效果更佳;玻璃砂堆积严重者会堵塞机台管路，影响供酸循环系统效 果，严重者影响蚀刻效率，使产品4pb 改善效果降低，一般会设置过滤器(filter)来改善玻 璃砂的问题。故设计良好的过滤系统和流场较佳的蚀刻槽体，是化学二强设备设计的重点
材质：PO-PET
加工定制：是
