适用范围：


　　金属、晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿物、耐火材料、复合材料、纳米材料等各领域的超平面精密研磨、抛光。


　　特点：


　　1、研磨盘、抛光盘即主盘可实现由脉宽调制技术制做的恒功率输出电源控制的无级调速旋转；　


　　2、载料块旋转由电机驱动无级调速，并可分别独立调控；　　　　　　　　　　　　　


　　3、载料块支撑架摆动由电机驱动无级调速，并可分别独立调控；


　　4、LED显示研磨、抛光盘转速；


　　5、装有可设定、倒计时显示的自动定时器；


　　6、配有修整块，用来修整研磨盘的平整度；　　　　


　　7、磨抛盘下方水槽底板有一定角度的倾斜至出水口，可使研磨时的沉淀磨料顺利地流向出水口，大大减轻了操作者清除剩余磨料的劳动强度。　　　　　　　　　　　


　　技术指标：


　　研磨盘、抛光盘直径：305毫米


　　主盘转速：15～250转/分无级调速


　　最大磨抛直径：115毫米


　　载料块工作位置：2个


　　定时范围：99小时59分钟


　　1个主电机功率：245瓦


　　4个减速电机功率：100瓦（合计）


　　载料块支撑轮转速：0～300转/分


　　载料块支撑架摆动频率：0～30次/分　　　　　　　　　　　　　　　　　　


　　载料块支撑架摆动角度：8度　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　


　　电源：交流220伏　


　　外型尺寸：760×500×350（毫米）
​