设备名称：台湾川宝的自动对位曝光机
曝光机型号：E200-7KMD
品牌：台湾川宝
项次 内 容规 格
A.一般规格
1电力系统AC380V 350HZ
2光源系统光 源 : 气冷式金属卤素灯× ，5kW
均匀度 : 92%以上
强 度 : 40mw/cm2 (台面) Puck( E I T)量测
解 析 度 ：3mil/3mil(湿膜、非滑丝粉）
产 能 ：2.5-3片（不含清洁及待料时间）
有效曝光面积 : 22“x25“底片尺寸 :24“x27“
3Panel规格尺 寸 : 12“x12“至22“x25“
厚 度 : 0. 1mm至2.0 mm
4曝光作业双面同时曝光
5底片对位系统 1.CCD 数量 :4个
2.CCD 功能 : 对位准度及底片涨缩检查
3. 对位形式 : 手调对位
4. 底片固定 : 双沟槽式真空吸附，真空度-650mmHg以上
5. 靶标形式 : 上底片圆点，下底片圆环
6. 对准精度 : ±12.5µm
6操作方式 作业方式 : 人工取放板，CCD检查靶标对准误差
7机台尺寸 外部尺寸 :3270L*1640W*1800H+120MM
B.系统架构
8曝光台框双曝光台面，玻璃 VS 玻璃
9曝光控制器智能型人机接口及曝光能量控制
10台面真空-180mmHg ~ -450mmHg
11冷 却灯 室 : 强制气冷式
曝光室 : 强制气冷式，抽取室内空气经HEPA吹入曝光室
12洁净控制洁净度等级 : Class 5000 HEPA 过滤网
13 客户提供环境 (1).室温 21℃±2℃，湿度 55%±5%之清洁环境
及外围设备 (2).冰水系统：5吨、流量60L/min、进水温度7~11℃(依现场配管计算)
进出水管径1-1/4“、排水管径3/4“
(3). 外接气源：5Kgf/cm2 (流量40~80 L/min)管径1/4“PT快速接头
(4).时规皮带加装保护外盖
(5).玻璃大对小正压设计
(6).伺服马达驱动枱框
(7).液晶CCD屏幕监控
（8）马达电机为日本富士
