氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡黄色冒烟液体。有刺激性气味。分子式 ：HF·H2O相对密度 1.15～1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% ，其溶质的质量分数可达35.35%。为高度危害毒物。最浓时的密度1.14g/cm3，沸点393.15K（120℃）。具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成气态的四氟化硅 反应方程式如下： SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l) 生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸： SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸。 正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。 工业制法：工业上用萤石（氟化钙 CaF2）和浓硫酸来制造氢氟酸。加热到250℃时，这两种物质便反应生成氟化氢。反应方程式为： CaF2 + H2SO4 （浓）→（加热） 2 HF + CaSO4 这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。 氟气与氢气混合后立刻爆炸，生成氟化氢 F2(g)+H2(g)=2HF(g)
用途 由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。
氢氟酸的质量标准化学试剂氢氟酸 GB/T620-1993
| 名称 | 优级纯 | 分析纯 | 化学纯 |
| 氢氟酸（HF）含量% ≥ | 40.0 | 40.0 | 40.0 |
| 灼烧残渣（以硫酸盐计）% ≤ | 0.001 | 0.002 | 0.01 |
| 氯化物（CL）% ≤ | 0.0005 | 0.001 | 0.005 |
| 硫酸盐和亚硫酸盐（以SO4计）% ≤ | 0.001 | 0.002 | 0.005 |
| 磷酸盐（PO4）% ≤ | 0.0001 | 0.0002 | 0.005 |
| 氟硅酸盐（SiF6) % ≤ | 0.02 | 0.04 | 0.06 |
| 铁(Fe) % ≤ | 0.00005 | 0.0001 | 0.0005 |
| 重金属（以Pb计）% ≤ | 0.0001 | 0.0005 | 0.001 |
工业氢氟酸GB7744－1998
| 项目 | 指标 | ||||
| 优等品 | 一等品 | 合格品 | |||
| HF-40 | HF-55 | HF-40 | HF-55 | ||
| 氟化氢含量%≥ | 40.0 | 40.0 | 55.0 | 40.0 | 55.0 |
| 氟硅酸含量，%≤ | 0.02 | 0.2 | 0.5 | 2.5 | 5.0 |
| 不挥发酸（以H2SO4计）含量，%≤ | 0.02 | 0.05 | 0.08 | 1.0 | 2.0 |
无水氢氟酸具有介电常数高,低黏度和宽的液态范围等特点因而是一种很好的溶剂.本身会发生自偶电离. 无水氢氟酸是一种酸性很强的溶剂其酸度与无水硫酸相当.能给予无水氢氟酸质子的物质很少，在水中很多呈酸性的化合物在无水氢氟酸中呈碱性或者是两性.
主要用途： 用作分析试剂、高纯氟化物的制备、玻璃蚀刻及电镀表面处理等。
所有浓度不低于140元/度 量大价优
