等离子清洗机原理：
利用等离子清洗机中的等离子体进行等离子清洗，所产生的等离子体的装置是在密封的容器里面设置多个电极的形成电场，利用真空泵达到一定的真空值，由于电场的作用，它们在发生了碰撞的时候形成了等离子体，由此产生的等离子体可以达到表面清洗处理的效果。
二、等离子设备在电子、塑胶行业应用：
深圳三和波达专业等离子设备生产及销售厂家，是采用微波等离子工艺用于芯片制造、MEMS器件、光伏电池、连接器、平板显示器和探测器等领域的市场领导者。在光刻胶灰化、活化、表面浸润、晶圆减薄和应力去除、打线前的bond pad清洁、封胶前的活化等应用中用安全的微波等离子对硅、三五族化合物、铌酸锂等半导体材料进行处理。微波等离子体特别适合于处理对静电敏感的器件。
三、等离子处理设备广泛应用于：
1．等离子表面活化/清洗； 2.等离子处理后粘合;
3. 等离子蚀刻/活化; 4. 等离子去胶;
5. 等离子涂镀(亲水,疏水); 6. 增强邦定性；
7.等离子涂覆； 8.等离子灰化和表面改性等场合。
通过其处理，能够改善材料表面的浸润能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。
设备的通用技术参数
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*供电电源： |
AC220V |
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*工作电流： |
整机工作电流不大于1.2A(不含真空泵) |
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*射频电源功率： |
200W |
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*射频频率： |
40KHz（偏移量小于0.2KHz） |
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*频率偏移量： |
小于0.2KHz |
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*特性阻抗： |
50欧姆，自动匹配 |
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*真空度： |
10Pa—1000Pa |
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*气体流量： |
60—600ml/min(可调) |
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*过程控制： |
PLC自动与手动方式 |
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清洗时间： |
1-100分钟可调 |
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功率大小 |
10%-100%可调 |
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内腔尺寸: |
￠100x270mm(直径*高度) |
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*外形尺寸： |
_500x450x250mm |
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*重量： |
16.5kg |
